大比表面積鱗片狀石墨濕法研磨機(jī),高剪切力制備石墨漿料分散機(jī),強(qiáng)力高速納米研磨機(jī),IKN立式多功能分散機(jī),強(qiáng)功能性石墨研磨機(jī),研磨分散石墨設(shè)備,工業(yè)化小型均質(zhì)分散設(shè)備,間隙可調(diào)的研磨分散設(shè)備,可24小時(shí)不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的分散剝離設(shè)備,高品質(zhì)石墨剝離設(shè)備
石墨具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性。經(jīng)過特殊加工的石墨,具有耐腐蝕、導(dǎo)熱性好,滲透率低等特點(diǎn),就大量用于制作熱交換器,反應(yīng)槽、凝縮器、燃燒塔、吸收塔、冷卻器、加熱器、過濾器、泵設(shè)備。廣泛應(yīng)用于石油化工、濕法冶金、酸堿生產(chǎn)、合成纖維、造紙等工業(yè)部門,可節(jié)省大量的金屬材料。為了保證石墨具有大的鱗片面積,需要利用強(qiáng)機(jī)械力進(jìn)行細(xì)化分散,當(dāng)然這邊所說的機(jī)械力不是指砂磨機(jī)、珠磨機(jī)一類利用鋯珠進(jìn)行沖擊撞擊破碎物料的方法,因?yàn)檫@種方法容易使鱗片石墨的結(jié)構(gòu)遭到破壞,大大影響產(chǎn)品性能,因此我們采用的是高剪切力的作用方式,利用強(qiáng)烈的湍流作用及液面作用力對(duì)物料進(jìn)行液相剝離細(xì)化,鱗片石墨的結(jié)構(gòu)破壞率被降至zui低。
上海IKN在石墨烯領(lǐng)域的應(yīng)用成功,為石墨烯行業(yè)的發(fā)展提供了設(shè)備支持,得到了充分的認(rèn)可。上海依肯研發(fā)的改良版膠體磨能夠利用高剪切力將大量顆粒細(xì)化、使團(tuán)聚體解聚,同時(shí)具有*的分散作用力,能夠?qū)⑹┰诩?xì)化的同時(shí)分散勻化,是目前的分散石墨烯的設(shè)備,寧波、四川、湖南、上海、北京、安徽,江陰等眾多石墨烯上中下游企業(yè)以及研究機(jī)構(gòu)均和我司有合作,客戶反饋制備出來的石墨烯既保留了大的比表面積,同時(shí)*的縮小了粒徑分布,大大增加了漿料的穩(wěn)定性,在制備石墨烯復(fù)合材料上也有著顯著優(yōu)勢。
大比表面積鱗片狀石墨濕法研磨分散機(jī)依靠定轉(zhuǎn)子間間隙(間隙可調(diào))使物料在通過研磨區(qū)域使受到強(qiáng)大的機(jī)械力、液力剪切、高頻振動(dòng)等多重力的物理作用,被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎,隨后進(jìn)過第二級(jí)高速剪切分散盤再一次剪切細(xì)化分散、勻化,達(dá)到物料超細(xì)粉碎和分散勻化的效果。
1、膠體磨+分散機(jī)二合一設(shè)計(jì):粉碎室設(shè)有三道磨碎區(qū),一級(jí)為粗磨碎區(qū),二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),三層為超微磨碎區(qū),通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙,能有效地達(dá)到所需的超微粉碎效果(也可循環(huán)加工)。
2、間隙可調(diào),研磨縫隙調(diào)節(jié)可以改變適用于特定工藝
3、設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)速度高達(dá)14000轉(zhuǎn),是國內(nèi)普通分散機(jī)的4-5倍,高效細(xì)化分散研磨物料
4、機(jī)身腔體采用三層夾套設(shè)計(jì)可以冷卻也可以加熱
5、采用德國雙端面機(jī)械密封,在保證有冷卻水的情況下,可以24小時(shí)連續(xù)不間斷工作
6、從實(shí)驗(yàn)室設(shè)備平穩(wěn)過渡到中試型實(shí)驗(yàn)以及后期的工業(yè)化放大實(shí)驗(yàn),無需重新調(diào)整實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),*程度降低了風(fēng)險(xiǎn)
CMSD2000系列大比表面積鱗片狀石墨濕法研磨機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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