SCREEN單片式半導(dǎo)體清洗設(shè)備SU3100具有8個(gè)內(nèi)置腔室，吞吐量能夠達(dá)到300wph

設(shè)備描述及主要配置機(jī)臺(tái)針對(duì)4寸晶圓后端制程設(shè)計(jì)，用于單片清洗

SCREEN二手清洗設(shè)備WS-820L，針對(duì)8英寸晶圓的高通量批量清洗系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)靈活的生產(chǎn)線配特點(diǎn)：1.傳輸類型選擇WS-820L用于200毫米晶圓并進(jìn)行無載體...

SUSSMicroTec的半自動(dòng)濕處理系統(tǒng)AD12為水介質(zhì)應(yīng)用提供了的清潔和開發(fā)功能

關(guān)鍵應(yīng)用：柵極預(yù)清洗RCA清洗光阻去除氧化硅腐蝕氮化硅腐蝕CoSix選擇性腐蝕產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：1、占地面積小，將外部unit集成在設(shè)備內(nèi)部來減小整體的占地面積

隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)的發(fā)展，工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入28納米以及14nm等更*等級(jí)，隨著工藝流程的延長(zhǎng)以及越趨復(fù)雜，每個(gè)晶片在整個(gè)制造過程中需要超過200道清洗步驟，...