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日立高新離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品。 離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來拋光樣品的表面。樣品預(yù)...
日立高新電鏡制樣設(shè)備磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠zui大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！HITACHI Io...
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