詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國 KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pr...

詳細(xì)摘要： 上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時(shí)的...

詳細(xì)摘要： 上海伯東美國 KRi 霍爾離子源 EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi 霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半...

詳細(xì)摘要： 上海伯東美國進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.

詳細(xì)摘要： 美國 KRI 霍爾離子源 eH 系列緊湊設(shè)計(jì), 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等級的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 ...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設(shè)備中, 例如預(yù)清洗,...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅(jiān)...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 2000 是一款更強(qiáng)大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eH 1000 所有的性能, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流,...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上, 提供高離子束流的離子源.

詳細(xì)摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供多個(gè)類型的低能量高密度的電子源, 從簡單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應(yīng)用在等離子和離子工藝中的陰極和陽極中和器, ...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達(dá) 1 米, 通過嚴(yán)格調(diào)整模組間的距離可以實(shí)現(xiàn)佳的均勻...

詳細(xì)摘要： 上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和...

詳細(xì)摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供中空陰極 e-Mission Hollow Cathodes 結(jié)構(gòu)緊湊, 重量輕, 可以安裝在離子源或真空系統(tǒng)的側(cè)面, 相...

詳細(xì)摘要： KRI Ion Source 應(yīng)用領(lǐng)域：無柵極等離子源技術(shù)----End-Hall 離子/等離子源有柵極離子源技術(shù)----RFICP 離子源----DC 離子源...