EDK 6900P系列TDL激光微量氣體分析儀

NH3 /CH4/HF /HCl /CO2/H2O等

典型應(yīng)用 系列產(chǎn)品

√ CH4甲烷 垃圾填埋 EDK 6901 A – 大氣微量CH4監(jiān)測

√ 連續(xù)污染物排放監(jiān)測 EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監(jiān)測

√ 天然氣監(jiān)測與分析 EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監(jiān)測

√ 工業(yè)過程控制

√ 氣候變化研究

√ 呼吸分析

優(yōu)勢

· 功能安全、持續(xù)狀態(tài)報(bào)告

· 快速響應(yīng)

· 低成本方案（無耗材、備品備件、無需再標(biāo)定）

· IP65 手提箱

· 數(shù)據(jù)存儲與日志

· 零點(diǎn)&寬量程校正

EDK系列產(chǎn)品采用增強(qiáng)型TDLS技術(shù)，0,1nm的掃描波長，避免目標(biāo)被測氣體吸收波長的交叉干擾，也可稱為“指紋光譜"，可實(shí)現(xiàn)高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術(shù)實(shí)現(xiàn)從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息，此種檢測方法，不需要物理參考池，且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測。EDK TDL6900系列產(chǎn)品提供了高精度、低檢測限的解決方案，儀器具有對被測氣體高準(zhǔn)確度選擇性進(jìn)行非接觸式測量、免標(biāo)定、低成本、易操作等特點(diǎn)。

目標(biāo)氣體                                低檢測限                         典型量程

(高溫高濕工況)                        0.2 ppm                            0 – 20, 50, 100, (500) ppm

(高溫高濕工況)                        0.8 ppm                            0 – 50, 100, (500) ppm

CH4 甲烷                                0.4 ppm                             0 – 100 (40'000) ppm

* 其他氣體可定制

*** 全程高溫伴熱溫度為120℃.

量程漂移                                 超過八小時(shí)每周期---在準(zhǔn)確度內(nèi)

線性/重復(fù)性                            < ± 2%

顯示分辨率                             0.01 ppm

T90時(shí)間                                  2s  (@氣量3 L/min)