CMSD2000高純超細(xì)陶瓷粉末研磨分散機(jī)
【簡(jiǎn)單介紹】
【詳細(xì)說(shuō)明】
高純超細(xì)陶瓷粉末研磨分散機(jī),高純超細(xì)陶瓷粉末高剪切研磨分散機(jī),管線式高純超細(xì)陶瓷粉末研磨分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口高純超細(xì)陶瓷粉末研磨分散機(jī),在線式高純超細(xì)陶瓷粉末研磨分散機(jī),IKN高純超細(xì)陶瓷粉末研磨分散機(jī)
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
隨著社會(huì)的發(fā)展與科技的進(jìn)步,在工業(yè)與生產(chǎn)中對(duì)材料的性能要求也不斷提高,現(xiàn)如今單料已很難滿足對(duì)其性能的綜合要求,材料的復(fù)合化是材料發(fā)展的必然趨勢(shì)之一。而陶瓷的高強(qiáng)度、高硬度、高彈性模量以及熱化學(xué)性穩(wěn)定等優(yōu)異性能是使其成為眾多學(xué)者研究的熱點(diǎn)復(fù)合材料之一,但陶瓷所固有的脆性限制著其應(yīng)用范圍及使用可靠性。因此,改善陶瓷的室溫韌性與斷裂韌性,提高其在實(shí)際應(yīng)用中的可靠性一直是現(xiàn)代陶瓷研究的熱點(diǎn)。
陶瓷粉末的制備其一直是符合化陶瓷生產(chǎn)中的重要環(huán)節(jié),陶瓷粉末的制造效率以及質(zhì)量都會(huì)直接影響陶瓷產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量以及生產(chǎn)效率,在傳統(tǒng)的陶瓷粉末生產(chǎn)中,其生產(chǎn)工藝十分簡(jiǎn)單,但是生產(chǎn)的時(shí)間長(zhǎng),生產(chǎn)的效率低,污染十分嚴(yán)重,而且能耗高,不利于生產(chǎn)成本的控制。
上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計(jì)算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
CMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 2850 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 1420 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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