CM2000/4醫(yī)藥軟膠囊改性膠體磨,*膠體磨
【簡(jiǎn)單介紹】
【詳細(xì)說明】
醫(yī)藥軟膠囊改性膠體磨,*膠體磨,軟膠囊改良型膠體磨,軟膠囊膠體磨,軟膠囊研磨分散機(jī),膠囊內(nèi)容物膠體磨,改良型膠體磨,醫(yī)藥乳液膠體磨,醫(yī)藥混懸液膠體磨
此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤,先研磨后分散,物料粒徑更細(xì),更穩(wěn)定!
軟膠囊制劑多用于非水溶性、對(duì)光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴(yán)密、用量精確、生物利用度高,藥物的穩(wěn)定性也得到提升,此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實(shí)驗(yàn)證明,口服制劑的生物利用度,以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊,混懸液次之,再次為含顆粒的硬膠囊,zui差為片劑。
近年來,超微粉碎技術(shù)逐漸應(yīng)用到軟膠囊領(lǐng)域,通過研究發(fā)現(xiàn),藥材經(jīng)過超微化粉碎后,粉末粒徑大小分布均勻,球性度和均質(zhì)度明顯改善,這些細(xì)粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當(dāng)中,質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展,對(duì)于膠囊的內(nèi)容物的處理,出現(xiàn)的大量的設(shè)備,如:膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)等。這些設(shè)備通過對(duì)內(nèi)容物的剪切,從內(nèi)容物粒徑更加細(xì)化,粉末分散更加均勻。而上海思峻應(yīng)對(duì)這種情況,研發(fā)出了新的設(shè)備,改良性膠體磨,該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī)的特點(diǎn),將二者一體,形成全新的設(shè)備,我們也將它定義為“研磨分散機(jī)”。
IKN/依肯改良型膠體磨對(duì)于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢(shì),對(duì)于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效,無論內(nèi)容物是乳液還是混懸液,都可以將物料充分的細(xì)化,提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭,IKN/依肯改良型膠體磨,研磨分散機(jī),有一級(jí)膠體磨頭和一級(jí)分散盤,對(duì)物料先研磨后分散機(jī),再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速,乳液粒徑一般可細(xì)化至1-2微米,混懸液一般可細(xì)化至3-5微米,當(dāng)然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來定。
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上海IKN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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