ERS2000/4二氧化硅納米分散機(jī)專業(yè)生產(chǎn)廠家

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分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實(shí)現(xiàn)“令人滿意的”精細(xì)分布。 

*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚，使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外，納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮，還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此，納米氧化物粉體必須均勻分散，充分打開其團(tuán)聚體，才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。 

當(dāng)固體顆粒分散到一種液體中時，形成一種懸浮液。當(dāng)一種液體分散到另一種液體中時，形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個液相間的界面處，表面張力開始發(fā)生作用。新表面的產(chǎn)生需要能量。在沒有外部影響的情況下，每個液相體系均企圖以較少的能量達(dá)到乳濁液狀態(tài)。

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顆粒細(xì)化到納米級后，其表面積累了大量的正、負(fù)電荷，納米顆粒的形狀極不規(guī)則，這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加，當(dāng)降至1nm時，表面原子比例高達(dá)90%，原子幾乎全部集中到顆粒表面，處于高度活化狀態(tài)，導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的表面效應(yīng)，很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)，從而團(tuán)聚發(fā)生

目前，產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn)，有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后，分散時根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認(rèn)識．許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性；② 不知道對zui終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評價，

二氧化硅納米分散機(jī)是

氣相二氧化硅質(zhì)量小，很輕，極易飛揚(yáng)，廣泛應(yīng)用于化妝品和農(nóng)藥行業(yè)。氣相二氧化硅也被認(rèn)為是Aerosil^®（Aerosil^®是德國德固賽公司氣相二氧化硅產(chǎn)品注冊商標(biāo)）或Cabosil^®（Cabosil^®是美國卡博特公司的注冊商標(biāo)），通常用作補(bǔ)強(qiáng)劑，穩(wěn)定劑或粘度調(diào)節(jié)劑。氣相二氧化硅加工的難點(diǎn)在于濕化并達(dá)到相應(yīng)的粘度。IKN在這個行業(yè)擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)，能夠滿足不同客戶的要求。

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IKN混合分散設(shè)備用于氣相二氧化硅工業(yè)的優(yōu)點(diǎn)

消除粉塵。IKN為氣相二氧化硅與水的混合，設(shè)計多種解決方案。粉體直接從包裝袋中吸入，或者可以跟您的工程師一起特殊定制工藝。

改善容器清潔問題。使用IKN在線粉體液體混合系統(tǒng)，能夠消除容器壁的物料殘留，改善清潔，并減少原材料浪費(fèi)。

化成分功能。很多公司在濕化二氧化硅工藝上都遇到困難，通常需要足夠的剪切力來達(dá)到材料活性和特定粘度，只有IKN可以提供這種類型的剪切分散機(jī)，為氣相二氧化硅濕化混合提供足夠的剪切力。

二氧化硅納米分散機(jī)

5封閉系統(tǒng)，防止灰塵和溶劑的排放

6潤濕顆粒，從而防止結(jié)塊的形成

7拆包卸料，不損失原料

8大大縮短生產(chǎn)時間

9通過更有效地碎裂原料，減少原料的添加

10緊湊的生產(chǎn)方法

11 開發(fā)了易于升級的過程，將實(shí)驗(yàn)室機(jī)器PLD用于生產(chǎn)機(jī)器PLD

12 機(jī)器可自動排水，具有CIP 清洗 和SIP功能

13 所有接觸液體的部件為316L或316 Ti不銹鋼

14*自動化

15符合3A衛(wèi)生和認(rèn)證

16根據(jù)需要提供醫(yī)藥級別設(shè)備

IKN工程師和應(yīng)用專家可協(xié)您解決關(guān)于機(jī)器PLD安裝到您現(xiàn)有的工藝系統(tǒng)中或關(guān)于拓寬整套新型生產(chǎn)設(shè)備供應(yīng)范圍的問題。

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