上海伯東提供用于光學鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng)

2023

10-12

14:26:55

 252

來源：伯東貿易（深圳）有限公司

上海伯東提供適用于光學鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng)
光的干涉在薄膜光學中應用廣泛. 光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學鍍膜是光學器件上的單個或多個材料沉積薄層, 實現(xiàn)多樣功能, 典型應用例如在鏡片鍍膜中, 為了消除光學零件表面的反射損失, 提高成像質量, 涂鍍一層或多層透明介質膜, 稱為增透膜或減反射膜. 薄膜沉積在新型特殊性能材料的開發(fā)和研究中起到重要作用.

光學鍍膜是如何工作的？
待鍍膜工件裝入鍍膜室, 其內將執(zhí)行噴濺工藝流程. 通常是兩個離子源, 一個濺射沉積源, 一個預清潔和輔助沉積源. 離子源在真空環(huán)境中產生離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 從而將薄膜加鍍到工件上. 此處所需的典型真空壓力一般小于 1x10-4 hPa. 清潔無碳真空環(huán)境和高穩(wěn)定的離子束流是實現(xiàn)精確的高質量的薄膜關鍵.
光學鍍膜機中的離子源和真空系統(tǒng)

光學鍍膜中離子源作用
通過使用上海伯東美國 KRi 離子源可實現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好, 膜層不易脫落. 其中射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.

上海伯東 KRi 射頻離子源 RFICP 參數(shù):

型號	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽極	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

光學鍍膜中真空系統(tǒng)
不論是蒸發(fā)鍍膜還是濺射鍍膜, 上海伯東提供滿足各種鍍膜工藝的德國 Pfeiffer 真空泵, 比如分子泵, 旋片泵, 螺桿泵及整套泵站, 同時提供用于真空測量的真空規(guī)和用于鍍膜設備腔體密封性泄露檢測的氦質譜檢漏儀, 以保證鍍膜工藝穩(wěn)定性.

推薦大抽速分子泵參數(shù)

型號	HiPace 1200	HiPace 1500	HiPace 1800	HiPace 2300
進氣口	DN 200 ISO-K DN 200 ISO-F DN 200 CF-F	DN 250 ISO-K DN 250 ISO-F DN 250 CF-F	DN 200 ISO-K DN 200 ISO-F DN 200 CF-F	DN 250 ISO-K DN 250 ISO-F DN 250 CF-F
氮氣抽速 l/s	1250	1400	1450	1900
極限真空度 hPa	< 1X10-7	< 1X10-7	< 1X10-7	< 1X10-7
電壓 V AC	100-120 200-240	100-120 200-240	100-120 200-240	100-120 200-240
氮氣壓縮比	> 1X108	> 1X108	> 1X108	> 1X108
轉速 RPM	37800	37800	31500	31500
預抽真空 hPa	2	2	1.8	1.8

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