化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)
詳細(xì)介紹
電子系統(tǒng)在快速發(fā)展, 但是磁性器件二維化而引發(fā)與三維塊材迥異的特性和制備工藝與半導(dǎo)體技術(shù)難以兼容的問(wèn)題仍未能很好的解決. 因此 MnZn鐵氧體作為一種優(yōu)良磁性器件用磁性材料, 對(duì)其進(jìn)行薄膜化并研究其特性, 乃至最終制作成平面化、小型化的磁性器件顯得尤為重要.
四川某實(shí)驗(yàn)室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積方法在 Si(100)/ Si(111) 和玻璃基片上原位沉積 MnZn 鐵氧體薄膜, 用以研究 MnZn 鐵氧體薄膜的低溫晶化、取向生長(zhǎng)等問(wèn)題.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
離子源型號(hào) | RFICP220 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >800 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 20 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 10-40 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 30 cm |
直徑 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量
試驗(yàn)中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 MnZn 鐵氧體薄膜, 沉積過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)參數(shù), 從而改變薄膜厚度、晶粒尺寸, 得到多種規(guī)格的高性能的 MnZn 鐵氧體薄膜材料, 滿足各種試驗(yàn)需求.
KRI 離子源的功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.
因此, 該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.
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上海伯東: 羅先生
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