快速退火爐（Rapid Thermal Process）

快速退火爐系統(tǒng)是一個(gè)簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛大尺寸為直徑2~12英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA)，（如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）?？焖偻嘶馉t配有一個(gè)管狀石英反應(yīng)室或不銹鋼腔體，因此可兼容處理大長度為300毫米的3 D樣片。

法國RTP系列的快速退火爐由法國Semco公司專業(yè)開發(fā)制造，法國工藝保障。溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達(dá)到300mm，大溫度可以達(dá)到1200攝氏度，處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行，做多可支持4路進(jìn)氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。

基于PID處理控制器的Eurotherm可以存儲(chǔ)20套程序，每套程序可以支持高達(dá)100個(gè)步驟的設(shè)定，帶USB2.0的接口。包含UniSoft 軟件，與微軟Windows操作系統(tǒng)兼容。通過該軟件，通過鏈接電腦可以非常方便地實(shí)現(xiàn)程序編輯以及數(shù)據(jù)記錄。

技術(shù)規(guī)格：

- 大溫度：1200攝氏度；

- 升溫速率：1~200攝氏度/秒；

- 降溫速度：1~200攝氏度/分鐘；

- 溫控均勻性：±1℃設(shè)定溫度；

- 加熱方式：紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞繀^(qū)域加熱；

- 燈管數(shù)量及功率：6支/20千瓦(RTP-50)，12支/33千瓦(RTP-100);

18支/34千瓦(RTP-200), 36支/108千瓦(RTP-300)；

- 腔體冷卻：水冷方式；

- 襯底冷卻：氮?dú)獯祾撸?/span>

- 工藝氣路：MFC控制，多4路 (氮?dú)狻鍤?、氧氣、氫氮混合氣?/span>)；

應(yīng)用領(lǐng)域：

- 離子注入/接觸退火；

- 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；

- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用；

- SiAu, SiAl, SiMo合金化；

- 低介電材料；

- 晶體化，致密化；

- 太陽能電池片鍵合；

快速退火爐主要幾款型號：

1）  快速退火爐JetLight 50

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、基片從前面載入/取出；

2、紅外鹵素?zé)艄芗訜幔鋮s采用風(fēng)冷（低噪音水平，無需壓縮空氣）；

3、石英腔體，腔體冷卻采用水冷，冷壁設(shè)計(jì)；

快速退火爐技術(shù)參數(shù)：

1、腔體尺寸：直徑50mm×深度150mm；

2、紅外鹵素?zé)簦?/span>6支； 大功率：15KW；

3、紅外鹵素?zé)衾鋮s方式：風(fēng)冷；

4、溫度范圍：室溫~1000 ℃；

5、溫度精度：±1℃；

6、溫度控制：快速數(shù)字PID控制；

8、熱電偶：K型熱電偶；

9、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計(jì)：壓力：2bars；

10、尺寸：500*500*400mm (W*D*H)；

2）快速退火爐JetFirst 100C

基片從前面載入/取出；

3）快速退火爐JetStar

也可以用于污染物處理；

基片從上面載入/取出；

大可支持的尺寸：直徑為300mm的Wafer或者300mm×300mm的基片；

大溫度高達(dá)1000攝氏度；

升溫速率為40K/sec；

降溫速率分段控制：從1000℃到400℃，降溫速率優(yōu)于200K/sec。從400℃到100℃大降溫速率控制在30K/sec；