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健實（北京）分析儀器有限公司
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ICP7800型金屬硅、工業(yè)硅檢測專用儀，具有突出的抗干擾和分析檢測性能，應用于研發(fā)、檢測等分析需求，可方便進行定性、半定量和精確定量分析，是常量、微量和痕量無機元素同時分析的理想儀器。
1. 應用范圍
ICP7800型金屬硅、工業(yè)硅檢測專用儀，具有突出的抗干擾和分析檢測性能，應用于研發(fā)、檢測等分析需求，可方便進行定性、半定量和精確定量分析，是常量、微量和痕量無機元素同時分析的理想儀器。
2. 工作環(huán)境
電壓：220V AC±10%MKJ
室溫：環(huán)境溫度（10-30
相對濕度：（20-80）%RH
3. 金屬硅、工業(yè)硅檢測專用儀技術規(guī)格
3.1. 等離子體射頻源：
3.1.1：全數字控制的雙電源設計射頻電源，更寬功率范圍500-1600W，功率可調，具有更強的樣品適應性；
3.1.2：自激式RF射頻發(fā)生器：自激式電源匹配速度快，功率負載能力強，可以直接分析99.9%的甲苯樣品。自動調諧，水冷散熱，適應復雜樣品分析功率切換，無運動部件，抗震抗干擾，更加可靠；
3.1.3：LOW模式：提供500W超低功率待機，降低氬氣消耗50%以上，待機時氬氣用量≤5L/min；
3.1.4：等離子體觀測方式：可配置軸向、徑向、雙向和同時雙向四種觀測模式。垂直矩管可避免高鹽沉積，延長炬管使用壽命，降低炬管耗材支出。軸向觀測使用金屬冷錐去除尾焰，獲得較高的靈敏度，無需配置空氣壓縮機，節(jié)省外部配件及消耗。徑向觀測的等離子觀測位置可調，針對不同元素的分析需求，具有更強的抗干擾的能力；
3.1.5：智能衰減：具有軸向衰減和徑向衰減功能，可衰減100倍以內濃度的樣品，使得樣品高含量元素，能夠一次分析完成，不需要反復稀釋，降低樣品前處理難度，支持簡化分析；
3.1.6：RF射頻頻率：27.12MHz，耦合效率大于80%；
3.1.7：RF功率穩(wěn)定性: ≤0.1%；RF頻率穩(wěn)定性：≤0.01%。
3.2. 光學系統：
3.2.1：恒溫三維光學系統，反射次數少，光能量損失低。所有光學元件均密封于熱平衡光室中，主機與光室熱隔離設計，更好的抵御外界環(huán)境溫度變化。光室：精密恒溫36℃±0.1℃，驅氬氣；
3.2.2：穩(wěn)定高效的全固定中階梯光柵分光系統，無運動部件，抗震強，穩(wěn)定可靠；
3.2.3：波長范圍：165-900nm，全波長覆蓋；
3.2.4：單色器：焦距：400mm，全反射成像光路，石英棱鏡二維色散系統；
3.2.5：中階梯光柵：53.6L/mm，63.5度閃耀，刻數越多，分辨率越高；
3.2.6：波長校正: 每次點火，僅用Ar譜線，自動進行光譜位置校正，保證分析波長的正確性，無須波長校正溶液；
3.2.7：全譜實時校準技術（TARC）：利用無干擾的氖特征譜線，對光譜的細微偏移進行實時校正，實現光譜的優(yōu)積分，確保長期穩(wěn)定性，良好消除光譜漂移對于測量的影響；
3.2.8：吹掃型光室：對189nm以下波長測定，選擇氬氣進行光路吹掃，無需使用真空泵，避免真空返油，污染光室；
3.2.9：雜散光：≤2.0mg/L（10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm處測定）；
3.2.10：光學分辨率（FWHM）：≤7pm @200 nm（分辨率和檢出限須在相同條件獲得）；
3.2.11：可擴展深紫外Cl/Br分析功能：雙光柵設計，使得光譜分析下限達到130nm深紫外區(qū)域。
3.3. 檢測器：像元級制冷的專有大面陣ECCD檢測器
3.3.1：檢測單元：1024*1024像素大面陣CCD檢測器，一次曝光；
3.3.2：成像尺寸：25.4mm×25.4 mm大面陣成像感光單元，采用24×24um大像元，帶來高靈敏度的響應，整體面幅大，能夠在高分辨率的同時，獲得更寬的光譜范圍；
3.3.3：像元級制冷：封裝在傳感器內部的TEC制冷，直接作用像元，制冷溫度大于-10℃，有效防止CCD表面冷凝，無需氣體吹掃保護；
3.3.4：防飽和溢出：針對每一個像素進行背泄式防溢出保護設計，消除譜線飽和溢出問題，無需擔心譜線飽和對鄰近譜線的影響；
3.3.5：智能積分設計：信號背景同步采集，曝光時間取決于譜線的光強，自動計算譜線曝光時間，同時以信噪比獲得高強度信號和弱信號，拓寬的動態(tài)范圍，使高低含量元素可以同時檢測，避免試樣反復稀釋；
3.3.6：檢測器表面無任何光轉換化學涂膜，不會因為涂層老化而導致檢測器損壞更換。
3.4. 樣品導入系統：
3.4.1：進樣系統：標配石英同心霧化器、石英旋流霧化室、可拆卸式炬管；
3.4.2：可選配氬氣在線稀釋，高精度MFC控制氬氣高效稀釋10% 以上的高鹽樣品，直接進樣；
3.4.4：可選配耐高鹽或耐HF進樣系統、有機進樣系統和氫化物發(fā)生器；
3.4.5：蠕動泵：12滾輪，4通道蠕動泵，泵速0-125rpm連續(xù)自動可調。確保穩(wěn)定進樣的同時，可支持進樣管、內標管、廢液管和輔助試劑進樣管（氫化物發(fā)生器）同時運行，有利于復雜樣品分析；
3.4.6：氣路控制：采用精密質量流量控制器控制多路氣體流量，最多可控制五路，包括霧化氣、輔助氣、冷卻氣和可擴展的附加氣體（O2和Ar），精度0.01L/min。
3.5. 軟件性能：
3.5.1：圖形化操作界面，軟件操作方便、直觀，具有定性、半定量、定量分析功能；
3.5.2：基于分類和版本的方法庫管理軟件，便于方法的管理、維護和傳承；內置部分標準方法，有助于提高分析效率；
3.5.3：具有同時記錄所有元素譜線全譜數據采集功能，數據可安全存儲，支持分析數據保存和檢索功能，方便日后再分析；
3.5.4：具有50000條以上的譜線庫，每條譜線至少可以選擇30個象素點進行測量；
3.5.5：具有全譜采集功能，軟件上可直接獲取完整全譜圖，了解樣品光譜及光譜干擾狀態(tài)；
3.5.6：具有多種干擾校正方法和實時背景扣除功能：如標準比較法、內標法、干擾元素校正系數法（IEC）、標準加入曲線法等，豐富了用戶多種分析研究的手段；
3.5.7：具有儀器校準功能，支持炬管準直、光源優(yōu)化等功能，方便用戶日常維護；具有可視化的儀器運行狀態(tài)監(jiān)控；
3.5.8：具有登錄口令保護，多級操作權限設置和網絡安全管理，歷史記錄保存；
3.5.9：具有可視化炬焰觀測模塊；
3.5.10：同時具有中英文版本軟件；
3.5.11：具有網絡遠程服務功能，自帶遠程服務助手，遠程診斷，4G網絡數據連接技術服務部門對于儀器實現遠程診斷維修；
3.5.12：軟件設計全面符合電子簽名管理的21 CFR Part 11管理法規(guī)，軟件具有三級管理權限和審計追蹤功能，符合3Q認證等法規(guī)要求；
3.5.13：可集成自動化分析儀器平臺、在線分析儀器平臺的軟件操作。
3.6. 分析性能：
3.6.1：分析速度：約每分鐘200條譜線；
3.6.2：樣品消耗量：僅需2ml；
3.6.3：測定譜線的線性動態(tài)范圍：≥105（以Mn257.6nm 來測定，相關系數≥0.999）；
3.6.4：精密度：測定1ppm或10ppm多元素混合標準溶液，重復測定十次的RSD≤0.5%；
3.6.5：穩(wěn)定性：測定1ppm或10ppm多元素混合標準溶液， 8小時的長時間穩(wěn)定性RSD≤1%；
3.6.6：檢出限：(單位ug/L，按JJG768-2005規(guī)定的元素)；
Zn213.856 | Ni231.604 | Mn257.610 | Cr267.716 | Cu324.754 | Ba455.403 |
0.5 | 1 | 0.5 | 1 | 1 | 0.1 |
3.6.7：可對分析元素的任何一條譜線進行定性、半定量和定量分析，支持內標法、標準加入法、干擾元素校正等方法；
3.6.8：預熱時間：從待機狀態(tài)到等離子體點燃時間小于5分鐘。
3.7. 儀器接口（含聯用分析軟件）：
3.7.1可實現自動化消解樣品處理工作站聯用(消解系統采用石墨消解電熱模式，實現消解、定容、進樣自動化操作，支持48位以上樣品同時處理）；
3.7.2具有有機樣品直接進樣分析系統接口（提供樣品制冷功能，溫度小于-15攝氏度以下）；
3.7.3具有在線消解模塊接口（支持在線全自動電熱消解和濃度控制、進樣管路自動清洗功能）；
3.7.4具有在線氫化物發(fā)生分析系統接口（支持反應液體自動添加和濃度控制、進樣管路自動清洗功能）；
3.7.5可連接離子交換工作站進行價態(tài)分析或低濃度富集高基體去除的分析；
3.7.6可連接自動進樣器進行分析（支持樣品位240以上可配置）。
4附件系統：
4.1計算機系統
4GB內存，500G硬盤，配DVD和鍵盤鼠標
4.2冷卻循環(huán)水系統
制冷量1490W，溫度范圍5-35℃
4.3激光打印機
黑白激光打印機
4.4單相交流穩(wěn)壓器
10KVA，精度1%，輸入電壓160V-280V，輸出電壓220v
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